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          太陽能電池分析技術(shù)(7):阻抗譜

           更新時間:2022-05-11 點(diǎn)擊量:6121
          本系列文章將介紹用于有機(jī)和鈣鈦礦太陽能電池的不同光電表征技術(shù),同時提取和分析重要的器件參數(shù),例如穩(wěn)態(tài)性能、瞬態(tài)光電壓、瞬態(tài)光電流、電荷載流子遷移率、電荷密度、陷阱密度、阻抗、理想因子等。


          阻抗譜(IS)

          阻抗譜是研究太陽能電池的一種常用的技術(shù),簡稱IS或EIS(電化學(xué)阻抗譜),或者也可稱為導(dǎo)納光譜(導(dǎo)納是阻抗的倒數(shù))。通過施加一個不同頻率的小振幅交流正弦電勢波,測量交流電勢與電流信號的比值,來測量器件的阻抗。通過使用大范圍的頻率,可以區(qū)分器件中不同的物理效應(yīng),因?yàn)樗鼈兙哂胁煌乃矐B(tài)動力學(xué)和界面結(jié)構(gòu)。例如,陷阱可以在低頻范圍內(nèi)產(chǎn)生更大的效應(yīng)。


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          圖1.不同光照下的阻抗譜IS曲線


          分析參數(shù):電荷載流子遷移率、俘獲動力學(xué)、等效電路

          在阻抗譜中,根據(jù)圖2公式將小正弦電壓V(t)施加到太陽能電池上


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          圖2


          其中 V0是偏置電壓,Vamp是電壓振幅,ω是角頻率 2?π?f。如果電壓振幅Vamp足夠小,則系統(tǒng)可以被認(rèn)為是線性的,因此電流密度j(t)也是正弦曲線,可分析其電流的振幅和相位變化。阻抗譜在不同的頻率/偏置電壓/偏置光下進(jìn)行測試,使用瞬態(tài)電壓和瞬態(tài)電流信號,根據(jù)圖3公式計算復(fù)數(shù)阻抗Z


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          圖3


          其中Y是導(dǎo)納,N是周期數(shù),T是周期1/f,i是虛數(shù)單位,ω是角頻率。為了分析阻抗,通常將電容C和電導(dǎo)G繪制成隨頻率變化的圖,或者根據(jù)偏置電壓計算



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          圖4


          其中 ω 是角頻率,Im() 表示虛部,Re() 表示實(shí)部。


          通常,阻抗譜數(shù)據(jù)繪制在Cole-Cole圖里。在這里,阻抗Z的實(shí)部和虛部繪制在不同頻率的復(fù)數(shù)平面上;或者繪制電容C與頻率的關(guān)系圖,如下:


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          圖5.電容-頻率曲線


          使用阻抗譜技術(shù)的主要優(yōu)勢之一是可以分離發(fā)生在不同時間尺度上的效應(yīng)。例如:與自由載流子的傳輸相比,俘獲和釋放通常發(fā)生在更長的時間尺度(更低的頻率)上。最常見的是使用等效電路分析阻抗譜數(shù)據(jù),不過等效電路的缺點(diǎn)是結(jié)果有可能不明確,所以參數(shù)不能與宏觀材料參數(shù)直接關(guān)聯(lián)。


          Knapp和Ruhstaller通過小信號分析求解漂移擴(kuò)散方程,以模擬阻抗譜數(shù)據(jù)。在這里,物理參數(shù)被用作模擬輸入,可用于直接解釋結(jié)果。在本研究中應(yīng)用軟件Setfos也采用了相同的方法。


          測量電容是探測由于空間電荷效應(yīng)造成的陷阱位置占用的一種方法。慢陷阱可以增加低頻下的電容。此外,鈣鈦礦太陽能電池中可能存在的緩慢離子電荷會導(dǎo)致低頻下電容的增加;電荷載流子的復(fù)合會導(dǎo)致電容降低,甚至可能變?yōu)樨?fù)數(shù)。此外,根據(jù)Knapp和Ruhstaller的分析,器件的自發(fā)熱也會導(dǎo)致負(fù)電容。正電容表示電壓和電流之間的相移為正(電壓引導(dǎo)電流),負(fù)電容表示相移變?yōu)檎娏饕龑?dǎo)電壓)。


          在SI中,我們展示了在Cole-Cole圖中繪制的不同偏置電壓在光照下的阻抗模擬。通常認(rèn)為,Cole-Cole圖中半圓的大小代表了器件的復(fù)合性能。根據(jù)模擬結(jié)果,得出結(jié)論,許多效應(yīng)會影響復(fù)平面中半圓的大小,因此建議仔細(xì)解釋這些結(jié)果。


          在相同的偏置電壓下,低頻時阻抗的實(shí)部與JV曲線中電流斜率的倒數(shù)相一致。如果探測頻率足夠低,則基本上可以測量直流特性。因此,IV曲線可以用作阻抗測量的一致性檢查。根據(jù)低頻阻抗數(shù)據(jù),可以在不使用等效電路的情況下重建JV曲線。


          圖6 顯示了所有情況下的阻抗模擬。在基本情況下,主要觀察到RC效應(yīng)。然而,由于背面光照,電容略高于27 nF/cm2的幾何電容,大量電荷會導(dǎo)致勢壘區(qū)減小,從而產(chǎn)生更高的電容。因此,提取勢壘(a),低遷移率(b),陷阱(c)或摻雜(e)會導(dǎo)致光照下的電容增加。在深度和緩慢陷阱(c)的情況下,這種電容上升僅在低頻下發(fā)生。如果探測頻率太高,則無法在一個周期內(nèi)捕獲和釋放電荷。因此,這些緩慢陷阱在高頻下是不可見的(例如圖6(c)中的100 kHz)。對于淺陷阱,釋放要快得多 - 因此電容上升已經(jīng)在更快的時間尺度上發(fā)生。


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          圖6. 表 1 中所有情況的阻抗仿真。根據(jù)圖4 左邊公式計算電容C。偏置電壓為 0,偏置光打開。灰色虛線代表幾何電容。


          在上面所有情況下,電容在頻率高于1 MHz時由于RC效應(yīng)都會降低。在串聯(lián)電阻(d)較高的情況下,由于RC時間較長,電容減小移至較低的頻率。根據(jù)圖7計算RC效應(yīng)的阻抗ZRC。


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          圖7


          其中Rs是串聯(lián)電阻,i 是虛數(shù)單位,ω 是角頻率,Cgeom是幾何電容。使用圖7等式在黑暗條件下通過電容-頻率圖計算串聯(lián)電阻和幾何電容。


          以上所有測試數(shù)據(jù)來自設(shè)備:Paios

          以上所有模擬仿真使用軟件:Setfos

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